May 18, 2020

この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。

近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。

DWLシリーズは最小300nmの高精細描画といった2次元の加工にとどまらず、グレイスケール描画を得意とし、IoTや自動運転技術の発展に伴い、センサー類...

October 9, 2019

第27回 マイクロシステム融合研究会

日時 : 10月25日(金)    14:00~17:40, 17:40~ 交流会 

場所 : 東北大学 西澤潤一記念研究センター http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/access.html 内 「

   仙台MEMSショールーム」 http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/showroom/index.html

主催 : 東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)http...

October 8, 2019

マスクレスリソグラフィセミナー&ワークショップを開催いたします。

近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。

今回のセミナーでは、弊社のマスクレスアライナーの他、描画データシュミレーションソフト、フォトレジスト等の関連技術のプレゼンテーションが用意されております。

ワークショップでは、弊社デモルームに設置...

September 25, 2019

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbHは、この度、卓上マスクレスアライナー「μMLA」をリリースしました。

630mm×770mmとデスクトップサイズのフットプリントながら最小線幅0.6μmとサブミクロンの描画が可能なマスクレス露光装置です。

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お問い合わせ先

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

営業部 sales@himt.co.jp

May 20, 2019

 この度、東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点様の多大なご協力を得て、セミナーを開催させていただくことになりました。

近年、レーザー・リソグラフィーによる3D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分野から注目されてきました。

今回のセミナーでは、各分野で研究開発を進めるメーカー様からの直近の情報のプレゼンテーションが用意されております。

 2019年3月にHIMT社製レーザー直接描画装置DWL66+がインストールされており、自らグレイスケール描画を行える日本国内...