マスクレスリソグラフィセミナー@広島大学ナノデバイス研究所 のお知らせ
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社よりセミナーをご案内申し上げます。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 日時：2022年5月13日(金) 14:00-16:00 主催：広島大学ナノデバイス研究所...
オンライン セミナー開催のご案内
この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインセミナーを開催いたします。 今回は、前回のオンラインセミナーで要望の多かった”フォトレジスト”をテーマにしております。 レジスト露光解析、現像溶解速度測定、受託評価・研究を行っているリソテックジャパンから関口様...
オンライン マスクレスリソグラフィー セミナー開催のご案内
この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。 近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エ...
第27回 マイクロシステム融合研究会 講演のお知らせ
第27回 マイクロシステム融合研究会 日時 : 10月25日（金） 14：00～17：40, 17：40～ 交流会 場所 : 東北大学 西澤潤一記念研究センター http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/access.html 内 「...
マスクレスリソグラフィー・セミナー&ワークショプ開催のご案内
マスクレスリソグラフィセミナー＆ワークショップを開催いたします。 近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野...
μMLA 卓上マスクレスアライナー
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbHは、この度、卓上マスクレスアライナー「μMLA」をリリースしました。 630mm×770mmとデスクトップサイズのフットプリントながら最小線幅0.6μmとサブミクロンの描画が可能なマスクレス露光...
グレイスケールリソグラフィー・セミナー開催のご案内
この度、東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点様の多大なご協力を得て、セミナーを開催させていただくことになりました。 近年、レーザー・リソグラフィーによる３D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分...
グレイスケールリソグラフィー・セミナー&ワークショプ開催のご案内
この度、京都大学ナノテクノロジーハブ拠点様の多大なご協力を得て、セミナー＆ワークショップを開催させていただくことになりました。 近年、レーザー・リソグラフィーによる３D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分...
学会・展示会出展情報 - 2019年4月15日
ハイデルベルグ・インストルメンツは以下の学会・展示会に出展予定です。 2019年 2019年4月16日-4月18日 第26回 国際ホトマスクシンポジウム (Photomask Japan 2019) @パシフィコ横浜 2019年4月16日-4月18日 第11回MEMS...
グレイスケールリソグラフィー・セミナー&ワークショプ 来場御礼
2018年10月8日から9日に東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて開催されましたグレイスケールリソグラフィー・セミナー＆ワークショップに多くの皆様にご参加頂き誠にありがとうございました。 1日目のプレゼンテーション資料、2日目のワークショップの資料及び計測データ...
