第27回 マイクロシステム融合研究会

日時 : 10月25日（金）    14：00～17：40, 17：40～ 交流会 

場所 : 東北大学　西澤潤一記念研究センター http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/access.html 内　「

　　　仙台MEMSショールーム」 http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/showroom/index.html

主催 : 東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター（μSIC）http...

マスクレスリソグラフィセミナー＆ワークショップを開催いたします。

近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。

今回のセミナーでは、弊社のマスクレスアライナーの他、描画データシュミレーションソフト、フォトレジスト等の関連技術のプレゼンテーションが用意されております。

ワークショップでは、弊社デモルームに設置...

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbHは、この度、卓上マスクレスアライナー「μMLA」をリリースしました。

630mm×770mmとデスクトップサイズのフットプリントながら最小線幅0.6μmとサブミクロンの描画が可能なマスクレス露光装置です。

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お問い合わせ先

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

営業部　sales@himt.co.jp

　この度、東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点様の多大なご協力を得て、セミナーを開催させていただくことになりました。

近年、レーザー・リソグラフィーによる３D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分野から注目されてきました。

今回のセミナーでは、各分野で研究開発を進めるメーカー様からの直近の情報のプレゼンテーションが用意されております。

　2019年3月にHIMT社製レーザー直接描画装置DWL66+がインストールされており、自らグレイスケール描画を行える日本国内...

この度、京都大学ナノテクノロジーハブ拠点様の多大なご協力を得て、セミナー＆ワークショップを開催させていただくことになりました。

近年、レーザー・リソグラフィーによる３D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分野から注目されてきました。

今回のセミナーでは、各分野で研究開発を進めるメーカー様からの直近の情報のプレゼンテーションが用意されており、ワークショップでは、京都大学ナノテクノロジーハブ拠点に設置されている

HIMT社製レーザー直接描画装置DWL2000を使ってのハンズオ...

ハイデルベルグ・インストルメンツは以下の学会・展示会に出展予定です。

2019年

2019年4月16日-4月18日

第26回 国際ホトマスクシンポジウム (Photomask Japan 2019) @パシフィコ横浜

2019年4月16日-4月18日

第11回MEMS Engineer Forum @KFCホール

2019年7月16日-7月18日

10th Japan-China-Korea Joint Conference on MEMS/NEMS @大雪クリスタルホール

2019年7月22日-7月24日

Advanced Materials Sc...