「第15回ナノ構造エピタキシャル成長講演会」出展のご案内
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は2023 年 ６ 15日（木）～17 日（土）に山形テルサ （山形県 山形市） で開催されます 第15回ナノ構造エピタキシャル成長講演会へ出展致します。 弊社ブースでは、ウェハや他の基板への直接露光としても最適な汎用性と柔軟性に優れ...
「MEMS Engineer Forum（MEF）2023」出展のご案内
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は4 月 19 日（水）～20 日（木）に東京両国のKFCホールで開催されます MEMS Engineer Forum （MEF) へ出展致します。 弊社ブースでは、ウェハや他の基板への直接露光としても最適な汎用性と柔軟性に優れたレー...
MLA150 ライブデモセミナー＠広島大学 ナノデバイス研究所 のお知らせ
広島大学ナノデバイス研究所ARIMプロジェクト支援室主催にて MLA150ライブデモセミナーを開催する事となりました。 MLA150の露光、アライメント露光、フィールドアライメント露光等を実際にご覧いただける貴重な機会になっています。 是非ご参加いただければ幸いに存じます。...
マスクレスリソグラフィセミナー@広島大学ナノデバイス研究所 のお知らせ
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社よりセミナーをご案内申し上げます。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 日時：2022年5月13日(金) 14:00-16:00 主催：広島大学ナノデバイス研究所...
オンライン セミナー開催のご案内
この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインセミナーを開催いたします。 今回は、前回のオンラインセミナーで要望の多かった”フォトレジスト”をテーマにしております。 レジスト露光解析、現像溶解速度測定、受託評価・研究を行っているリソテックジャパンから関口様...
オンライン マスクレスリソグラフィー セミナー開催のご案内
この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。 近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エ...
第27回 マイクロシステム融合研究会 講演のお知らせ
第27回 マイクロシステム融合研究会 日時 : 10月25日（金） 14：00～17：40, 17：40～ 交流会 場所 : 東北大学 西澤潤一記念研究センター http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/access.html 内 「...
マスクレスリソグラフィー・セミナー&ワークショプ開催のご案内
マスクレスリソグラフィセミナー＆ワークショップを開催いたします。 近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野...
μMLA 卓上マスクレスアライナー
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbHは、この度、卓上マスクレスアライナー「μMLA」をリリースしました。 630mm×770mmとデスクトップサイズのフットプリントながら最小線幅0.6μmとサブミクロンの描画が可能なマスクレス露光...
グレイスケールリソグラフィー・セミナー開催のご案内
この度、東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点様の多大なご協力を得て、セミナーを開催させていただくことになりました。 近年、レーザー・リソグラフィーによる３D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分...
