この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。 近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。 DWLシリーズは最小300nmの高精細描画といった2次元の加工にとどまらず、グレイスケール描画を得意とし、IoTや自動運転技術の発展に伴い、センサー類の需要が高まりグレイスケール描画機能については多くお問い合わせを頂いております。 今回のセミナーでは、弊社のマスクレスアライナーの他、描画データシュミレーションソフト、等の関連技術のプレゼンテーションが用意されております。 また、東北大学マイクロシステム融合研究開発センターの戸津健太郎准教授をゲストに迎え、DWL2000や2020年2月に新たに同大学へ導入されたMLA150の活用事例をご紹介頂きます。 <開催日程>