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May 20, 2019

 この度、東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点様の多大なご協力を得て、セミナーを開催させていただくことになりました。

近年、レーザー・リソグラフィーによる3D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分野から注目されてきました。

今回のセミナーでは、各分野で研究開発を進めるメーカー様からの直近の情報のプレゼンテーションが用意されております。

 2019年3月にHIMT社製レーザー直接描画装置DWL66+がインストールされており、自らグレイスケール描画を行える日本国内...

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