5月30日(木) | 京都大学

@京都大学-グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショップ

ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェア ナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト 等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューションをご紹介 また希望者には実際に描画を行っていただけるワークショップも開催
お申込みありがとうございます。
@京都大学-グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショップ

日時・場所

2019年5月30日 13:00 – 2019年5月31日 17:00
京都大学, 日本、〒606-8501 京都府京都市左京区吉田本町

開催概要

グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショプ

◆主催

京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

◆共催

GenISys株式会社

◆概要

グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年5月30日 13:00~18:00

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

GenISys株式会社

ナガセケムテックス株式会社

京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点

交流会

ハンズオンワークショップ      2019年5月31日 9:00~17:30

ステップ&スロープ・フレネルレンズといった3次元構造体を実際のレジストにグレイスケール描画を行います。

◆会場

5月30日セミナー     京都大学国際科学イノベーション棟5階会議室A、B 地図はこちら

5月31日ワークショップ  京都大学工学研究科物理系校舎327号室 地図はこちら

*5月30日セミナーのセッション終了後交流会を予定しています。

**5月31日ワークショップに参加の場合はクリーンルームウェア・クリーンシューズをご持参ください。お持ちでない方は事前にご相談ください。

◆定員

セミナーのみ 40名

セミナー及びワークショップ 10名

◆備考

お申込みは1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします。

参加登録時にシステムの都合上"お支払へ進む"と表示されますが費用は発生しません。

受付時にお名刺を1枚頂戴いたします。お名刺のご用意をお願いいたします。

参加イベント
価格
数量
合計
  • セミナー+ワークショップ
    ¥0
    ¥0
    0
    ¥0
  • セミナー
    ¥0
    ¥0
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    ¥0
合計¥0

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