5月30日(木)
|京都大学
@京都大学-グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショップ
ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェア ナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト 等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューションをご紹介 また希望者には実際に描画を行っていただけるワークショップも開催


日時・場所
2019年5月30日 13:00 – 2019年5月31日 17:00
京都大学, 日本、〒606-8501 京都府京都市左京区吉田本町
開催概要
グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショプ
◆主催
京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
◆共催
GenISys株式会社
◆概要
グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年5月30日 13:00~18:00
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
GenISys株式会社
ナガセケムテックス株式会社
京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
交流会
ハンズオンワークショップ 2019年5月31日 9:00~17:30
ステップ&スロープ・フレネルレンズといった3次元構造体を実際のレジストにグレイスケール描画を行います。
◆会場
5月30日セミナー 京都大学国際科学イノベーション棟5階会議室A、B 地図はこちら
5月31日ワークショップ 京都大学工学研究科物理系校舎327号室 地図はこちら
*5月30日セミナーのセッション終了後交流会を予定しています。
**5月31日ワークショップに参加の場合はクリーンルームウェア・クリーンシューズをご持参ください。お持ちでない方は事前にご相談ください。
◆定員
セミナーのみ 40名
セミナー及びワークショップ 10名
◆備考
お申込みは1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします。
参加登録時にシステムの都合上"お支払へ進む"と表示されますが費用は発生しません。
受付時にお名刺を1枚頂戴いたします。お名刺のご用意をお願いいたします。
参加イベント
価格
数量
合計
セミナー+ワークショップ
¥0
5月30日 セミナー 5月31日 ハンズオンワークショップ 両方に参加される方はこちら
¥0
0¥0
セミナー
¥0
5月30日セミナーのみ参加の方はこちら
¥0
0¥0
合計
¥0