マスクレスリソグラフィーセミナー&ワークショップ

Name: マスクレスリソグラフィーセミナー&ワークショップ
Start: 2019-10-09T13:30:29+09:00
End: 2019-10-09T17:30:29+09:00
Location: 東京大学 武田先端知ビル

ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェアナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューション及びその実践で役立つヒントをご紹介

お申込みありがとうございます。

日時・場所

2019年10月09日 13:30 – 17:30

東京大学武田先端知ビル, 日本、〒113-0032 東京都文京区弥生２丁目１１−１６

グレイスケールリソグラフィセミナー

◆主催

東京大学　東京大学　超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

◆共催

GenISys株式会社

◆概要

グレイスケールリソグラフィセミナー　2019年6月5日　13:30~17:30

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 - DWLシリーズによるグレイスケールリソグラフィ

GenISys株式会社 - グレイスケール・リソグラフィにおける描画データ最適化ツールのご紹介

ナガセケムテックス株式会社 - グレイスケール用厚膜フォトレジスト(仮題)

◆定員

40名

◆備考

お申込みは1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします。

参加登録時にシステムの都合上"お支払へ進む"と表示されますが費用は発生しません。

受付時にお名刺を1枚頂戴いたします。お名刺のご用意をお願いいたします。

合計

￥0