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10月09日(水)
|東京大学 武田先端知ビル
マスクレスリソグラフィーセミナー&ワークショップ
ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェア ナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト 等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューション及びその実践で役立つヒントをご紹介
お申込みありがとうございます。
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日時・場所
2019年10月09日 13:30 – 17:30
東京大学 武田先端知ビル, 日本、〒113-0032 東京都文京区弥生2丁目11−16
開催概要
グレイスケールリソグラフィセミナー
◆主催
東京大学 東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
◆共催
GenISys株式会社
◆概要
グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年6月5日 13:30~17:30
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 - DWLシリーズによるグレイスケールリソグラフィ
GenISys株式会社 - グレイスケール・リソグラフィにおける描画データ最適化ツールのご紹介
ナガセケムテックス株式会社 - グレイスケール用厚膜フォトレジスト(仮題)
◆定員
40名
◆備考
お申込みは1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします。
参加登録時にシステムの都合上"お支払へ進む"と表示されますが費用は発生しません。
受付時にお名刺を1枚頂戴いたします。お名刺のご用意をお願いいたします。
参加イベント
価格
数量
合計
セミナー
¥0
1名様毎にお手続きをお願いいたします。
¥0
0¥0
合計
¥0
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