Wed, Jun 05 | 東京大学 武田先端知ビル

@東京大学-グレイスケールリソグラフィセミナー

ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェア ナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト 等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューション及びその実践で役立つヒントをご紹介
お申込みありがとうございます。

日時・場所

Jun 05, 2019, 1:30 PM – 5:30 PM
東京大学 武田先端知ビル, 日本、〒113-0032 東京都文京区弥生2丁目11−16

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