5月25日(月) | 東京大学 武田先端知ビル

@東京大学-グレイスケールリソグラフィセミナー (1)

ハイデルベルグ・インストルメンツのレーザー直接描画装置 GenISysのシミュレーションソフトウェア ナガセケムテックスのグレイスケール用厚膜フォトレジスト 等々、グレイスケールリソグラフィに纏わる各メーカーから最新ソリューション及びその実践で役立つヒントをご紹介
お申込みありがとうございます。
@東京大学-グレイスケールリソグラフィセミナー (1)

日時・場所

2020年5月25日 13:30 – 17:30
東京大学 武田先端知ビル, 日本、〒113-0032 東京都文京区弥生2丁目11−16

開催概要

グレイスケールリソグラフィセミナー

◆主催

東京大学 東京大学 超微細加工リソグラフィー・ナノ計測拠点

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

◆共催

GenISys株式会社

◆概要

グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年6月5日 13:30~17:30

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 - DWLシリーズによるグレイスケールリソグラフィ

GenISys株式会社 - グレイスケール・リソグラフィにおける描画データ最適化ツールのご紹介

ナガセケムテックス株式会社 - グレイスケール用厚膜フォトレジスト(仮題)

◆定員 

40名

◆備考

お申込みは1名様1枚ずつでのお手続きをお願いいたします。

参加登録時にシステムの都合上"お支払へ進む"と表示されますが費用は発生しません。

受付時にお名刺を1枚頂戴いたします。お名刺のご用意をお願いいたします。

参加イベント
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