MEMSセンシング&ネットワークシステム展 2018

HIMTの最新レーザー直接描画ソリューション -グレイスケールリソグラフィから300nm-

Tuesday, October 16, 2018

HIMTの最新レーザー直接描画ソリューションのご紹介。HIMTのグレイスケール描画の仕組みからグレイスケールリソグラフィの実践におけるあれこれをご説明します。　　　＜DWLシリーズ＞グレイスケールリソグラフィ・高精細描画モード(最小線幅300nm)・フリーフォーム描画　＜MLAシリーズ＞高精細描画モード(最小線幅600nm)・高アスペクト比描画・フィールドアライメント描画 

nano tech 2018 シーズ＆ニーズセミナー

東北大学 試作コインランドリにおけるハイデルベルグ・インストルメンツ社製レーザー直接描画装置を用いた グレイスケールリソグラフィの実践とその加工例

Thursday, February 15, 2018

高精細レーザ描画装置であるDWL2000を用いたグレイスケールリソグラフィについて紹介します。

厚膜のポジ型フォトレジストを塗布した基板上に、グレイスケールのパターンに応じて変調させたレーザー光を場所を変えながら連続的に照射します。レーザー光が強く照射された場所ほど、現像後のレジスト残膜が小さくなり、立体的な構造が得られます。これまでに、マイクロレンズアレイ、マイクロフレネルレンズ、回折格子など、微小光学部品を中心に応用されています。講演では、グレイスケールデータの作成、サンプル準備、レーザー露光、現像、観察の一連の工程や加工例を紹介します。

また、光学部品製作においてとくに重要視される、フォトレジスト表面の粗さを小さくする手法についても紹介します。