マスクレスリソグラフィセミナー@広島大学ナノデバイス研究所のお知らせ

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社よりセミナーをご案内申し上げます。

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日時：2022年5月13日(金) 14:00-16:00

主催：広島大学ナノデバイス研究所 ARIMプロジェクト支援室

費用：無料

申込先URL：https://forms.gle/iAfzKt28VJtRZdfM9

プログラム：

14:00 挨拶：広島大学ナノデバイス研究所特任准教授田部井哲夫　

14:10 「HIMTシリーズラインナップ紹介」：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社上瀧英郎

14:30 「ナノデバイス研究所新規導入 MLA150の特徴とアプリケーション事例紹介」:　ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社上瀧英郎

15:00 「広島大学ナノデバイス研究所紹介」：未定

15:15 「広島大学ナノデバイス研究所での共用設備・装置の利用方法について」：未定

15:30　Q&A

お問い合わせメールアドレス：nanofab@ml.hiroshima-u.ac.jp

6月中にはハンズオンセミナーも予定しております。日程は決まり次第ご案内いたします。

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広島大学ナノデバイス研究所様の協力でマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。

広島大学ナノデバイス研究所に共用施設としてMLA150が導入されました。

西日本では共用施設としては初めてのMLA150です。

是非西日本の皆様にもMLA150を知って頂きたく、ご参加頂ければ幸いに存じます。

Maskeless Aligner - MLA150

マスクレスアライナー MLA 150 は、最新鋭のマスクレスリソグラフィー装置です。用途に応じて、高解像度・高アスペクト比・単純なグレースケール構造を製作可能です。

量子デバイス・2次元材料・半導体材料・ナノワイヤ等のナノ加工、MEMS、マイクロ光学素子、センサー、アクチュエーター、MOEMS、その他材料・ライフサイエンス向けデバイス等様々な分野で活用されています。

2015年に発表したマスクレスアライナーシリーズは、今日では従来のマスクアライナーの代替として定着しています。マスクレスアプローチは、サイクルタイムの大幅な短縮に繋がります。設計の修正があっても、CADレイアウトを変更するだけで、迅速に対応することができます。また、表裏のアライメントを自動化し、100×100mm²の面積を1ミクロンの構造で10分以内に露光する高速性も特徴です。