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nano tech 2018第17回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議出展のご案内

February 2, 2018

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はnano tech 2018第17回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議に出展いたします。

 

 

 

 

 

名  称:nano tech 2018第17回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議

会  期:2018年2月14日(水)~16日(金)

時  間:10:00~17:00

会  場:東京ビッグサイト〔東京国際展示場〕

主  催:nano tech実行委員会

 

弊社ブースでは、ウェハや他の基板への直接露光としても最適な汎用性と柔軟性に優れたレーザー直接描画装置を MEMS・ハイアスペクト比構造体等のセンサー制作用途を中心とした制作事例と共にご紹介する予定です。

また、16日の14:10から東北大学マイクロシステム融合研究開発センターの戸津健太郎准教授によるセミナーの開催を予定しています。


セミナー (参加費無料)
講      師: 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター 
                准教授 戸津健太郎 氏
講演内容: グレイスケールリソグラフィの実践とその加工例 
日      時:2018年2月16日(金)14:10-14:55
会      場: シーズ&ニーズセミナーC会場(東6ホール会場内)

 

【講演者プロフィール】

現職
東北大学マイクロシステム融合研究開発センター 副センター長 准教授

2004年 東北大学大学院工学研究科機械電子工学専攻博士課程修了
同年  東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻助手
2007年 東北大学産学官連携推進本部助教
2010年 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター准教授
    (現在に至る)

【講演概要】

高精細レーザ描画装置であるDWL2000を用いたグレイスケールリソグラフィについて紹介します。厚膜のポジ型フォトレジストを塗布した基板上に、グレイスケールのパターンに応じて変調させたレーザー光を場所を変えながら連続的に照射します。レーザー光が強く照射された場所ほど、現像後のレジスト残膜が小さくなり、立体的な構造が得られます。これまでに、マイクロレンズアレイ、マイクロフレネルレンズ、回折格子など、微小光学部品を中心に応用されています。講演では、グレイスケールデータの作成、サンプル準備、レーザー露光、現像、観察の一連の工程や加工例を紹介します。また、光学部品製作においてとくに重要視される、フォトレジスト表面の粗さを小さくする手法についても紹介します。

 

 

問い合わせ先
担当 営業部 上瀧・齋藤
電話 045-938-5250
FAX 045-938-5251
E-mail : sales@himt.co.jp 

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