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グレイスケールリソグラフィー・セミナー&ワークショプ開催のご案内

April 19, 2019

 

 

この度、京都大学ナノテクノロジーハブ拠点様の多大なご協力を得て、セミナー&ワークショップを開催させていただくことになりました。

近年、レーザー・リソグラフィーによる3D描画技術の研究開発は急速に進化しており、高い汎用性、品質、スループット、可能描画エリアの大きさで、様々な分野から注目されてきました。

今回のセミナーでは、各分野で研究開発を進めるメーカー様からの直近の情報のプレゼンテーションが用意されており、ワークショップでは、京都大学ナノテクノロジーハブ拠点に設置されている

HIMT社製レーザー直接描画装置DWL2000を使ってのハンズオン・トレーニングをご体験いただける貴重な機会をご提供いただけます。

 ご多忙のところとは存じますが、是非ご参加いただけますようお願い申し上げます。

<開催日程>
◇セミナ-

2019年5月30日(木)(定員50名)受付開始 13:15 開始 13:30 終了 18:00
◇ワークショップ

2019年5月31日(金) (定員10名)受付開始  9 : 00      開始 9:30 終了 17:00

<場所>
5月30日セミナー     京都大学国際科学イノベーション棟5階会議室A、B

5月31日ワークショップ  京都大学工学研究科物理系校舎327号室

<セミナー及びワークショップ内容>
◇セミナー
・DWLシリーズによるグレイスケール描画 (Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH)
・シュミレーションソフトウェア (GenISys GmbH)
・グレイスケール用レジスト (ナガセケムテックス)
・ナノテクノロジーハブ拠点 (京都大学)
 
◇ワークショップ
ステップ&スロープ・フレネルレンズ等、実際のレジストに対するグレイスケール描画を
ハンズオン・トレーニングでご体験いただけます。

 <お申込み方法>

イベントページにアクセスし必要事項をご記入の上お申し込みください。 

 

 

 

 

<問い合わせ先>
担当 営業部 上瀧・齋藤
電話 045-938-5250
FAX 045-938-5251
E-mail : sales@himt.co.jp

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