マスクレスリソグラフィー・セミナー&ワークショプ開催のご案内

October 8, 2019

 

 

マスクレスリソグラフィセミナー&ワークショップを開催いたします。

近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。

今回のセミナーでは、弊社のマスクレスアライナーの他、描画データシュミレーションソフト、フォトレジスト等の関連技術のプレゼンテーションが用意されております。

ワークショップでは、弊社デモルームに設置されているHIMT社製マスクレス露光装置MLA150を使ってのハンズオン・トレーニングをご体験いただける貴重な機会でございます。

 ご多忙のところとは存じますが、是非ご参加いただけますようお願い申し上げます。

<開催日程>

2019年11月7日(木)

<場所>

ジャーマンインダストリーパーク

〒226-0006 神奈川県横浜市緑区白山1-18-2


<プログラム>
  9:30 受付開始

  9:50 挨拶

10:00 [MLA150/MLA300/μMLA]マスクレスリソグラフィーby Heidelberg Instruments

10:45 描画データ処理、シュミレーションソフトウェアBEAMER及びLABのご紹介 by GenIsys

11:15 Introduction of Nagase Photolithography Material by Nagase ChemteX

12:00 昼休憩

13:00 ワークショップ with MLA150 (定員5名)満員御礼

17:00 終了
 
◇ワークショップ
MLA150にてマスクレスリソグラフィをハンズオン・トレーニングでご体験いただけます。

 <お申込み方法>

イベントページにアクセスし必要事項をご記入の上お申し込みください。 

 

 

 

 

<問い合わせ先>
担当 営業部 上瀧・齋藤
電話 045-938-5250
FAX 045-938-5251
E-mail : sales@himt.co.jp

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