オンライン マスクレスリソグラフィー セミナー開催のご案内

May 18, 2020

この度、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はオンラインマスクレスリソグラフィセミナーを開催いたします。

近年、プロセスにマスクを必要としない事で高い経済性と開発サイクルの速さを特徴とするマスクレス露光技術は急速に進化しており、高い汎用性・品質・スループット・可能描画エリアの大きさが延びてきている事から様々な分野から注目され、研究開発の分野だけでなく生産での採用事例も増えてきました。

DWLシリーズは最小300nmの高精細描画といった2次元の加工にとどまらず、グレイスケール描画を得意とし、IoTや自動運転技術の発展に伴い、センサー類の需要が高まりグレイスケール描画機能については多くお問い合わせを頂いております。

今回のセミナーでは、弊社のマスクレスアライナーの他、描画データシュミレーションソフト、等の関連技術のプレゼンテーションが用意されております。

また、東北大学マイクロシステム融合研究開発センターの戸津健太郎准教授をゲストに迎え、DWL2000や2020年2月に新たに同大学へ導入されたMLA150の活用事例をご紹介頂きます。



<開催日程>

2020年5月27日(水)


<プログラム>
+オープニング

13:30 HIMTラインナップ紹介 イデルベルグ・インストルメンツ㈱(以下HIKK)上瀧英郎

+グレイスケールセッション

13:50 HIMT DWLシリーズによる最新グレイスケールリソグラフィ / HIKK上瀧英郎

14:15 グレイスケール露光のためのドーズ量自動調整及びデータ最適化ツールのご紹介 / GenISys清水諭

14:45 微細加工共用施設におけるレーザ描画装置の活用 / 東北大学戸津健太郎准教授

+バイナリーセッション

15:15 HIMT MLAシリーズによる最新マスクレスリソグラフィ / HIKK上瀧英郎

15:35 レーザ描画解像度向上のためのOPC補正ツールのご紹介 / GenISys清水諭

 

<ソフトウェア>

Microsoft Teams

本ソフトウェアはブラウザ上で動作いたします。

インストールは必須ではございません。

*Microsoft Temas クイックガイド

 

 

<費用>

無料

 

<その他ご案内>

-ご都合に合わせて途中参加、途中退出して頂いて問題ありません。

-ご質問がございましたら、Sales@himt.co.jpにメールを頂ければ個別にご対応させて頂きます。


 <お申込み方法>

下記イベントページにアクセスし必要事項をご記入の上お申し込みください。 

*申し込みページがセキュリティの設定に寄っては表示されない場合がございます。

その場合はSales@himt.co.jpまで

-メールアドレス

-お名前

-御社名/所属機関名

-部署名

-役職

-電話番号

-ご興味のあるアプリケーション(例. マイクロオプティクス、マイクロ流路等

以上をご連絡ください。

 

 

 

 

<問い合わせ先>
担当 営業部 上瀧
電話 045-938-5250
FAX 045-938-5251
E-mail : sales@himt.co.jp

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